※どなたでもご参加頂けるセミナーです。

　産学連携学会の第26回「お茶の水コラボレーションセミナー」のご案内です。

日時：平成29年9月13日（水）17時～18時30分（終了後　懇親会を開催）
　
場所：国立研究開発法人科学技術振興機構（ＪＳＴ）　東京本部別館2階セミナー室
　　　　　（〒102-0076　東京都千代田区五番町７　Ｋ's五番町 ）
　
参加費用：無料（懇親会費1,000円） 　
　
講演テーマ：『京都大学発　ミストCVD成膜技術と次世代パワーデバイス技術の事業化への挑戦』
講演者：株式会社FLOSFIA（フロスフィア） 営業部 國枝 浩二 様

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　（上の写真は、前回（第25回）のお茶の水コラボレーションセミナーの様子です）

　第26回「お茶の水コラボレーションセミナー」では、今注目を集めている京都大学発ベンチャー企業の株式会社FLOSFIA様にご登壇頂きます。

　今回の講演テーマは、『 京都大学発　ミストCVD成膜技術と次世代パワーデバイス技術の事業化への挑戦 』です。

　株式会社FLOSFIAは、酸化ガリウム半導体デバイスの開発を先駆者的に進めている、いずれ我が国のパワー半導体業界に大きなインパクトをもたらすであろう、注目の京都大学発ベンチャー企業です。

　同社は、「コランダム構造酸化ガリウム パワーデバイスの新規p型層材料の作製に成功！」というタイトルで2016年9月にプレスリリースを行い、業界の注目を集めました。

　最近では、日刊工業新聞に「次世代パワー半導体材料、酸化ガリウム急浮上 - FLOSFIAがSBD（ショットキーバリアーダイオード）開発」というタイトルで紹介されています。

　パワー半導体に大きなイノベーションをもたらすと言われている酸化ガリウムパワー半導体の実用化のための課題と言われて久しいのが、p型層の実現です。
　同社はこの技術開発に世界で初めて成功し、業界を驚かせています。

　また、ミストCVD成膜技術という、京都大学発の独自の薄膜技術を事業化したことでも注目されています。
　これはＭＥＭＳデバイス、医療デバイスにも応用が可能なとても興味深い技術です。
　様々な応用分野があり、今回のセミナーではそのいくつかをご紹介頂けると思います。
　
　ご関心のある方のご参加をお待ちしております。
　
　
　なお、私（知財経営研究社 代表）は、産学連携学会の会員とは別の立場で、酸化ガリウムの結晶ビジネスに関わっております。
※酸化ガリウム（ガリウムオキサイド）の研究　～（株）AKT研究所～


＜知財経営研究社＞